Diit.cz - Novinky a informace o hardware, software a internetu

EUV skenery pro 10nm výrobu získá TSMC příští rok

euv photolithography
TSMC se pomalu začíná chystat na 10nm výrobu. Jedním z klíčových prvků nezbytných pro sériovou výrobu jsou vhodné EUV skenery s dostatečně výkonným zdrojem světla…

EUV litografie klade velký důraz na výkon světelného zdroje, který určuje jednak rychlost samotného výrobního procesu a jednak, pro který proces je ještě možné daný zdroj využít (čím menší, tím vyšší výkon). TSMC, která v současnosti vyrábí na 20 nanometrech a rozbíhá několik procesů na FinFET technologii, se pomalu připravuje na další krok, kterým je 10nm proces.

Ještě v létě společnost přiznávala, že na přípravy pro 10nm výrobu nebylo sáhnuto (ještě neexistoval ani tým, který by se jí měl věnovat), ale nyní už je situaci jiná. TSMC objednala u ASML dodávku dvou strojů NXE: 3350B, které disponují 80W zdrojem světla (bude dostupný i 100W upgrade) a počítá s modernizací dvou stávajících NXE: 3300B o výkonnější zdroj světla.

Asml Euv Roadmap 2014 02

Tím získá celkem čtyři stroje, které jsou třeba pro smysluplné zahájení sériové výroby na 10 nanometrech. Současné NXE: 3300B v aktuální 40W konfiguraci zvládají zpracovat přes 500 waferů denně, v příštím roce nabídne ASML 125W zdroj, díky kterému stoupne výkon na více než 1000 waferů denně a v roce 2016 plánuje představit 250W světelný zdroj, který by měl posunout teoretické hranice přes 1500 waferů na den.

Asml Euv Roadmap 2014 01

Reálná čísla samozřejmě budou poněkud nižší, různí výrobci, kteří současný NXE: 3300B vybavený 40W zdrojem používají, reportují zhruba ~400-500 reálně vyrobených placek denně.

Asml Euv Roadmap 2014 03

Nakonec zajímavý slajd, který naznačuje vzdálenější budoucnost. Zatímco pro 10nm výrobu jsou jednotlivé dílčí technologické prvky vyvinuté a dostupné (nezaměňovat se samotným procesem jako takovým), 7nm ještě bude vyžadovat nějaký čas, než bude pro TSMC nebo Intel smysluplné se na ni začít připravovat.

Tagy: 
Zdroje: 

Diskuse ke článku EUV skenery pro 10nm výrobu získá TSMC příští rok

Pátek, 28 Listopad 2014 - 11:14 | no-X | Intelu se do EUV skenerů pro 10nm proces nechce,...
Pátek, 28 Listopad 2014 - 11:10 | Jon Snih | Používá Intel vlastní mašiny pro EUV nebo sáhne...

Zobrazit diskusi