GlobalFoundries chtějí brzy odstartovat výrobu 7nm procesem s EUV

EUV, čili extrémní ultrafialová litografie, se už v minulém roce posunula z říše inženýrských vlhkých snů do reality, když společnost ASML začala nabízet výrobní zařízení s dostatečně silným zdrojem EUV světla. V tu dobu už bylo jasné, že je jen otázka času, než se tato technologie začne využívat v praxi a nepůjde o něco, co se dlouhá léta vyvíjelo do ztracena. 

 

 

EUV má kvůli své vlnové délce pouze 13,5 nm vysoce problémové nasazení. Když to vezmeme opravdu zkrátka, jde o CO₂ laser, kterým se zasahují malinké kuličky cínu s průměrem jen asi 30 mikronů, čímž se tvoří ionizované plazma a z něj se zrcadly pokrytými molybdenem a křemíkem usměrňuje samotné EUV záření na jeho cíl. Nelze využít čočky a ve stroji musí být vakuum, protože EUV záření je pohlcováno v podstatě vším, takže sklem by neprošlo. A i při sebelepší snaze je EUV na zrcadlech pohlcováno a tím jsou kladeny ještě větší nároky na sílu jeho zdroje, s jehož výkonem byly vždy problémy i tak. 

 

Je totiž nutné zajistit výkonný zdroj EUV záření, aby byla výroba efektivní a wafery mohly být zpracovávány s dostatečnou kadencí. Nyní jsou k dispozici 250W zdroje s tím, že se bude pracovat na efektivitě jejich využití, aby do cíle dorazilo přes blánu kryjící wafer proti nečistotám alespoň 88 % vytvořeného záření (aktuálně je to asi o 10 procent méně). Právě proto se měla EUV technologie nasadit s rozmyslem a postupně. 

 

 

Řešení firmy GlobalFoundries, která v tom jistě nebude osamocena, bude takové, že se EUV využije zpočátku jen na vytvoření některých částí čipů, což se bude týkat prvních generací 7nm procesu. Pozdější 7nm procesy už by mohly být založeny zcela na EUV a r. Gary Patton, zástupce GlobalFoundries uvedl, že pro 5nm už bude EUV přímo nezbytnost. 

 

Co se týče blízké budoucnosti výrobních procesů této firmy, ty se budou točit právě kolem 7 nm, přičemž tato technologie už je vyvíjena přímo v GlobalFoundries. Pozastavujeme se nad tím proto, že její 14nm technologie (14XM) byla vysoce problémová, a to až tak, že si firma raději licencovala proces 14LPP od Samsungu. Nyní se tak už chce opět spolehnout sama na sebe. 

 

 

Přeskočí tak 10nm proces a přejde rovnou na 7nm, jenž by měl docílit v porovnání se 14nm snížené spotřeby o 60 procent, anebo zvýšeného výkonu o 40 procent. S výrobou by se mělo začít v nejbližších měsících, což je základní předpoklad toho, aby mohlo AMD představit někdy kolem poloviny tohoto roku první 7nm čipy Vega. 

 

 

My se ale nejdříve setkáme se 12nm procesory Ryzen a právě o tomto procesu jsme moc neslyšeli. GlobalFoundries potvrzují, že 12nm proces je vylepšený 14nm s jistými optimalizacemi, které zajistily zvýšení výkonu o 10 procent a o 15 procent vyšší hustotu prvků. 

 

Zdroj: Extremetech