ASML rozjíždí výrobu EUV strojů, příští rok jich plánuje 50

Společnost ASML dokázala svým zákazníkům loni dodat celkem 26 tzv. step-and-scan systémů pro extrémní ultrafialovou litografii (EUVL), přičemž v tomto roce už to má být zhruba 35 a v příštím roce kolem 50. Firma tak může být na jednu stranu trošku zklamaná, že se jí nepodařilo dosáhnout stanoveného cíle, a sice 30 EUVL skenerů pro rok 2019, ovšem v roce 2018 to bylo jen 18 strojů a jisté je, že zájem o ně prudce poroste. ASML je přitom aktuálně jediná společnost, která podobná zařízení vyrábí, takže kdo chce EUVL používat, nemá koho jiného oslovit. Forma tak jen v posledním čtvrtletí předchozího roku dodala osm strojů a přijala objednávky na dalších devět. 

 

 

To mimochodem ukazuje na ten prostý fakt, že EUVL už se stává běžnou součástí výrobních procesů předních společností, jichž už však bohužel moc nezbylo, pokud máme na mysli opravdu světovou první ligu. Lze si pak představit, že většina z těchto zařízení putuje do továren Samsungu a TSMC.  

 

ASML také postupně své EUV skenery vylepšuje a aktuálně má v nabídce již Twinscan NXE: 3400C, jichž dodala loni celkem šest. Ty dokáží zpracovat přes 170 waferů s průměrem 300mm za hodinu, zatímco model B jich zvládne mezi 125 a 155. Ovšem 3400C také přijde na cenu vyšší o cca 30 procent, a tak není divu, že ASML si své tržby z prodejů EUVL zařízení plánuje zvýšit z loňských 2,8 miliard eur na letošních 4,5 miliard. 

 

Společnost ASML je na tom ale v posledních dvou letech podobně jako Intel v tom smyslu, že nedokáže vyrábět tolik EUVL strojů, kolik by si přála. Za cíl si stanovila 20 a loni 30, přičemž reálně jich dodala 18 a poté 26. ASML uvádí, že za tím stojí dočasné potíže s rozjetím výroby moderních NXE:3400C, takže cíl 35 strojů pro letošek obsahuje i ony čtyři, které loni nestihly být vyrobeny. Nikdo neví přesně, kolik jich mají zákazníci objednaných, a tak existují jen odhady, že jichž může být až 49. 

 

Nicméně ASML věří, že v blízké budoucnosti dokáže navýšit produkci až nad 50 strojů ročně, ovšem kdyby jich měla začít vyrábět více než 60, musela by použít i své zařízení, které aktuálně buduje pro výrobu budoucích high-NA strojů (dnes jde o low-NA). Jedná se o zkratku pro číselnou/numerickou aperturu, která značí schopnosti optiky s ohledem rozlišovací schopností, hloubku ostrosti a množstvím světla, které jí prochází a vyjadřuje se bezrozměrnou hodnotou. High-NA jsou pro ASML stroje s alespoň 0,55 a low-NA mají 0,33. High-NA jsou otázkou budoucnosti a půjde v jejich případě především o výsledný výkon, čemuž také odpovídají požadavky na zdroj EUV záření, které musí mít alespoň 500 W (dnes stačí cca polovina). 

 

Pokud by ASML mělo využít zařízení stavěné pro high-NA znamenalo by to jistě pořízení další do výbavy, takže bude záviset jen na rozhodnutí firmy, zda jí to přijde jako vhodná investice. 

Zdroj: Anandtech